全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)的研究人員近日宣佈一項重大技術突破,成功將極紫外光(EUV)微影設備的光源功率大幅提升。這項新技術能將光源功率從目前的600瓦提高至1000瓦,預計在2030年之前,能讓先進晶片的產量增加高達50%。此舉旨在協助這家荷蘭巨頭在面對美國與中國新興競爭對手時,持續保
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大型科技公司今年計畫投入超過7,000億美元的資本支出,其中絕大部分資金將用於建設和配置資料中心,以支援人工智慧的訓練與推論需求。雖然大部分資金流向了GPU和客製化AI加速晶片,使得主要半導體類股受益,但在資料中心中,除了晶片之外,還有一個經常被忽視的關鍵組件:網路設備。在晶片股備受追捧的熱潮下,網
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