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2月 2026年27

【即時新聞】ASML新一代EUV曝光機宣告量產就緒,助攻台積電與Intel衝刺AI先進製程

全球微影設備龍頭 ASML(ASML) 傳出重大技術突破,公司高層向路透社證實,其新一代晶片製造設備 High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光曝光機)已準備好讓晶片製造商投入大規模生產。這項進展不僅是半導體產業的重要里程碑,更被視為突破 AI 晶片效能極限的關鍵一步。這款新型設備是目前全球唯一的商

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2月 2026年27

【即時新聞】ASML新一代EUV設備準備就緒 晶片大廠將迎來AI量產新紀元

艾司摩爾 (ASML) 的高層向路透社透露,公司的新一代晶片製造設備已準備好供製造商投入大量生產,這標誌著晶片產業邁出的重要一步。這家荷蘭大廠是全球唯一的極紫外光微影 (EUV) 設備供應商,這類設備是晶片製造的關鍵環節。ASML 的技術長 Marco Pieters 表示,公司計畫在週四於聖荷西舉

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Sempra 在最新財報會議中揭示未來五年的雄心壯志,包括 650 億美元的資本計畫和強勁的收益預測,特別針對德州市場的擴充套件。 .badgeprice-container {
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