全球兩大晶圓代工廠台積電(TSM)與三星，已承諾採用艾司摩爾(ASML)最新的高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影設備。隨著人工智慧帶動先進晶片需求大增，這項要價高達4億美元的關鍵設備，將能幫助晶片製造商在矽晶圓上印製出更小、更複雜的電路圖案，成為延續摩爾定律的核心武器。

三星鎖定DRAM生產，台積電瞄準先進晶片

三星表示將從2028年開始，將艾司摩爾(ASML)的最新設備應用於DRAM記憶體的生產，並預期在2030年進一步擴大採用，以延續DRAM的微縮藍圖並大幅提升製程效率。另一方面，台積電(TSM)則指出，為了因應AI應用所需的複雜電晶體架構，未來對於High NA EUV機台的使用量將會持續攀升。

巴克萊按讚艾司摩爾，看好設備採用能見度提升

市場投資人普遍將新設備的成功，視為艾司摩爾(ASML)延續過去一年股價大漲120%氣勢的重要關鍵。艾司摩爾(ASML)先前曾預期在2027年將EUV總產能提升約30%。巴克萊(BCS)發布報告指出，這項消息消除了市場原先對新設備採用率的疑慮，在強勁需求推動下，艾司摩爾(ASML)甚至可能面臨進一步擴充產能的重大決策。隨著台積電(TSM)與三星表態，兩大巨頭正式加入了英特爾(INTC)的行列，確認了先進製程市場的熱絡。

推動光罩技術升級，進一步降低製造成本

除了採購新世代微影設備，台積電(TSM)與三星也將共同參與艾司摩爾(ASML)推動的新世代12吋光罩技術升級計畫。光罩是晶片生產過程中的重要模板，從現有的6吋格式升級為12吋後，不僅能大幅提升生產效率，更有助於降低整體晶片的製造成本，為半導體產業鏈帶來實質效益。

艾司摩爾(ASML)公司簡介與最新股價表現

艾司摩爾(ASML)成立於1984年，總部位於荷蘭，是半導體製造微影系統市場的領導品牌。晶片製造商高度仰賴其先進的微影工具，以繼續突破5奈米製程節點。艾司摩爾(ASML)前一交易日收盤價為1,714.88美元，上漲68.69美元，漲幅達4.17%，單日成交量為1,289,622股，較前一日變動-10.40%。

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