台積電擴大先進製程布局，首度證實已向艾司摩爾(ASML-US)採購最新一代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）設備。此舉意在提前卡位A14及更先進製程世代的技術競爭，顯示晶圓代工龍頭對尖端設備的需求依然強勁。

針對近期市場關注的焦點，可留意以下三大發展重點：

• 先進製程設備導入：台積電高層證實，儘管新一代設備成本極高，但為了滿足客戶對AI晶片等高運算效能的需求，已經完成設備採購。
• 技術門檻推升：高數值孔徑極紫外光將成為2奈米之後世代的關鍵設備，進一步鞏固相關設備商在微影市場的護城河。
• 盤中股價波動：近期盤中速報顯示，該個股曾一度下跌5.01%，報1669.48美元，然其今年以來累計漲幅仍達64.27%，長線趨勢與短期波動並存。

艾司摩爾(ASML-US)：近期個股表現

基本面亮點

ASML成立於1984年，總部位於荷蘭，是全球半導體製造光刻系統市場的領導廠商。其核心的光刻技術是將電路圖案曝光到晶圓上的關鍵製程，更是晶片製造商突破5奈米以下先進製程節點不可或缺的設備。目前公司主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等全球重量級半導體製造商，在尖端晶片製造成本中佔據重要地位。

近期股價變化

根據2026年6月4日的交易數據，ASML開盤價為1679.80美元，盤中最高觸及1779.285美元，最低來到1672.43美元。最終收盤價落在1757.47美元，單日上漲31.11美元，漲幅達1.80%。在成交量方面，當日成交量達224萬8204股，較前一交易日變動增加23.06%，顯示市場交易熱度有所提升。

綜合來看，ASML憑藉其獨家的極紫外光設備，持續在半導體先進製程擴產潮中扮演關鍵角色。儘管近期股價在盤中出現震盪，但受惠於大客戶的持續採購與資本支出規劃，後續仍可密切關注全球晶片需求變化以及半導體擴建對訂單的實質挹注，作為評估產業長期發展的觀察指標。

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