近日艾司摩爾(ASML)在全球供應鏈佈局與市場競爭上出現多項重要動態。在供應鏈拓展方面，印度塔塔電子與ASML簽署合作協議，將於古吉拉特邦投資約110億美元建立300毫米晶圓廠。雙方合作重點包含：

• 導入微影設備與技術解決方案，協助提升量產能力
• 培育在地微影製程人才，推動長期研發基礎建設
• 鎖定28奈米至110奈米成熟製程，預估月產能達5萬片

目前公開資訊評估該廠將以DUV深紫外光設備為主。同時在台灣市場，近期有數十億規模的設備車隊前往台積電嘉義廠區，顯示在地產能建置持續推進中。另一方面，面對ASML在曝光機市場超過八成的市佔率，競爭對手Nikon傳出有意於2026年針對ArF設備發動價格戰，試圖以成本優勢搶攻客戶。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

成立於1984年，為全球半導體微影系統的市場領導者。公司核心技術為運用光源將電路圖案曝光至半導體晶片上，此製程佔製造尖端晶片成本的極高比例。台積電、三星與英特爾等主要半導體製造商，皆高度仰賴其新一代EUV極紫外光設備，以持續超越5奈米以下製程節點。

近期股價變化

根據2026年5月29日交易數據，個股當日開盤價為1633.47，盤中最高達1654.20，最低下探1604.86，終場收盤價為1612.76。單日上漲6.99，漲幅約0.44%。在交易動能方面，當日成交量達1070357股，較前一交易日增加10.06%，顯示市場交投活躍度有所提升。

總結來看，公司在先進製程EUV領域維持技術絕對優勢，並藉由海外合作案拓展成熟製程供應鏈版圖。投資人後續可留意的指標包含各地設備交付與量產時程的順暢度，以及競爭對手在ArF設備市場發動價格戰所帶來的潛在影響，皆為左右後續營運表現的關鍵變數。

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