美國兩黨國會議員正推動跨黨派《MATCH法案》，擬進一步升級對中國的半導體出口管制，此舉將直接牽動全球光刻機龍頭 ASML 的營運佈局。在極紫外光（EUV）設備已被限制出口後，新法案將矛頭指向深紫外光（DUV）設備。

法案的重點影響與市場焦點如下：

• 全面封殺 DUV 設備：提議禁止向中國「銷售或維修」DUV 浸潤式曝光技術，防堵中國取得關鍵半導體製造設備技術。
• 衝擊中國晶片供應鏈：華為、中芯國際（利用 DUV 研發 7 奈米製程）、華虹，以及記憶體廠長江存儲與長鑫存儲等，均高度依賴此設備擴展產能。
• 潛在營收影響：市場評估，若法案正式簽署並實施，恐面臨失去占總營收近 20% 的 DUV 銷售市場風險。

ASML(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

公司總部設於荷蘭，為全球半導體光刻系統的市占領導者。其設備是晶片製造的關鍵，客戶須仰賴下一代 EUV 設備以突破 5 奈米以下製程節點。目前營運模式以零件外包與組裝為主，核心客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等國際晶圓製造大廠。

近期股價變化

根據 2026 年 4 月 13 日的交易數據，開盤價為 1465.16 元，盤中最高達 1500.80 元，最低來到 1461.03 元。終場收漲 21.92 元，以 1500.20 元作收，單日漲幅為 1.48%。當日成交量達 1,709,372 股，較前一交易日增加 12.49%，整體交易動能有所提升。

綜合來看，ASML 在先進製程光刻設備具備絕對的市場領導地位，但美國《MATCH法案》的立法進度將是後續重大變數。投資人應持續關注該出口管制法案是否正式通過，以及其對近 20% 營收佔比的潛在影響與全球訂單板塊的後續變化。

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