美國出口管制擬再升級：DUV設備禁令風暴

美國國會正推動跨黨派的《MATCH法案》，擬全面禁止 ASML 對中國出口深紫外光（DUV）曝光設備。此前，美國已限制極紫外光（EUV）設備出口，使中國先進製程發展受限。若新法案通過，將對高度依賴曝光機的中國半導體產業造成影響，市場關注的焦點包含：

• 邏輯晶片：中芯國際與華為等企業依賴 DUV 設備推進 7 奈米級製程。
• 記憶體擴產：長江存儲與長城電子仰賴該技術擴充記憶體產能。
• 維修與銷售限制：法案提議禁止銷售與維修 DUV 設備，並可能將相關企業列入實體清單。

對 ASML 而言，中國市場約占其總營收近 20%，潛在的設備銷售與維修禁令成為近期市場矚目的關鍵。

ASML(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

成立於 1984 年，總部設於荷蘭，是全球半導體光刻系統市場的領導者。公司核心技術為光刻製程，協助晶片製造商持續增加矽面積上的電晶體數量，其 EUV 光刻工具是超越 5 奈米製程節點的關鍵。主力客戶囊括台積電、三星與英特爾等全球指標性半導體製造商。

近期股價變化

觀察 2026 年 4 月 10 日的交易數據，開盤價落在 1482.3500 美元，盤中最高達 1502.5000 美元，最低點為 1473.7150 美元。終場收盤價為 1478.2800 美元，單日上漲 29.6400 美元，漲幅達 2.05%。當日總成交量為 1519599 股，較前一交易日變動 -3.80%。

總結而言，美國針對半導體設備出口管制的最新動向，凸顯了全球供應鏈的地緣政治變數。投資人後續可留意法案的立法進度，以及設備出口限制對公司營收結構與全球半導體產能版圖的長期影響。

權知道

我們重視「知」的權利 不惜抽絲剝繭、深入調查 只為讓投資人不錯過重要的投資訊息