美國政府宣布將投資1.5億美元於xLight，這可能對全球半導體產業產生廣泛影響，尤其是對ASML(ASML)來說，投資公司Jefferies表示。Jefferies分析師Janardan Menon指出，儘管目前尚難以確定這項技術是否會成功，但美國政府的支持，加上美國國家實驗室技術和Albany Nanotech的協助，增加了成功的可能性。如果成功，這可能會在長期內降低對ASML極紫外光刻機的需求，因為xLight技術可能顯著提高生產力和產量。

xLight技術的潛力與挑戰

xLight的投資來自美國商務部，這家公司正開發自由電子雷射技術，被視為生產更快、更先進半導體晶片的關鍵。該公司由前Intel(INTC)執行長Pat Gelsinger擔任執行主席，這也是川普政府自2022年CHIPs法案成立CHIPS研究與開發辦公室以來的首次投資。ASML的極紫外光刻技術使用的是13.5奈米波長的光源，而xLight的方法則涉及自由電子雷射，其宣稱比ASML的方法強大四倍。xLight還表示，其技術可縮短波長至13.5奈米以下。

xLight技術成功的潛在影響

如果xLight技術被廣泛採用，可能使半導體代工廠的產量和良率超過目前ASML機器的水平。這也意味著需要的ASML極紫外光刻機數量會減少。Menon指出，若成功，xLight的技術可能以較低成本縮小製程節點，與ASML的13.5奈米波長路線圖相比，ASML的系統成本會急遽上升。

xLight技術的實現方式

Menon表示，如果xLight成功，其方法可能需要建造一個大型設施，包含粒子加速器和自由電子雷射光源。這個潛在設施可能提供足夠光源給20台ASML的極紫外光刻系統。xLight也表示其技術完全向後相容。如果原型機成功，美國政府和xLight可能會在美國改裝ASML的EUV機器。

ASML的應對策略

Menon承認ASML不太可能袖手旁觀，可能會「支持」xLight的發展。即便技術成功可能導致系統銷售數量減少，以及因缺乏光源導致美國晶圓廠系統售價下降，ASML可能會因美國政府的壓力而合作。若技術成功，預期美國政府不會允許其在美國以外廣泛使用，因為主要目標是促進美國在半導體製造技術和公司的領導地位。

xLight技術商業化的可能性

當然，xLight的最終部署仍需時日，Menon表示，到本世紀末，該技術在現有美國晶圓廠商業化的可能性低於50%。即便成功，預期ASML的成長率在未來十年將受到負面影響，儘管較便宜的晶片製造可能帶來更高的先進製程產量。

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