
【產業戰隊VIP】AI 散熱、再生晶圓、碳化矽三箭齊發
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前言:液冷時代來臨
- 隨GPU與ASIC晶片功耗持續攀升,單櫃熱設計功耗(TDP)動輒130~140kW,既有機房受限水路與建築結構,短期仍以「液對氣」為主流,但自2027年起,隨新一代機房投產,「液對液」將加速普及。且北美四大CSP的新資料中心正全面納入液冷設計,隨著液冷導入快速,帶動冷水板等關鍵零組件需求快速升溫。
- AI資料中心散熱進入液冷轉型,據研調機構TrendForce指出,受惠輝達GB200 NVL72機櫃式伺服器放量,今年液冷滲透率將自14%跳升至33%,後續冷卻技術更將由「液對氣」過渡至「液對液」,對散熱能力與穩定性提出更高要求,各家台廠正把握這波升級潮,沿冷水板、CDU與系統化基礎設施三路並進。
- 富邦預3Q25 鴻海/廣達/緯創/其他GB200/GB300 出貨量分別為5,000/3,500/1,800/1,300 櫃,合計 11,600 櫃。此
- 外,4Q25鴻海/廣達/緯創/其他的出貨量將進一步增加至5,000/4,500/2,600/2,000櫃,合計14,100櫃。

- 資料來源:富邦投顧
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