首批High-NA EUV晶片即將交付

荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)新任執行長Christophe Fouquet近期表示，首批採用次世代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機製造的邏輯與記憶體晶片，預計將在未來幾個月內正式交付。針對大客戶台積電先前提出該設備造價高達4億美元過於昂貴的疑慮，該公司回應了以下技術優勢與市場現況：

• 新設備能將晶片特徵尺寸縮小達66%，提升對焦精度。
• 雖初期投入成本高昂，但透過長期技術優化，最終可降低整體圖案化生產成本。
• 目前英特爾最積極推動新技術，SK海力士也計畫導入，台積電則維持審慎評估。

受惠於AI產業的高速成長，經營團隊預期未來幾年全球晶片銷售額將維持每年約20%的增幅，新一代設備的交貨進度將牽動全球半導體供應鏈發展。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

該公司成立於1984年，總部位於荷蘭，是全球半導體光刻系統市場的領導者。主要客戶涵蓋英特爾、三星與台積電等製造大廠。其下一代EUV光刻設備是晶片製造商持續突破5奈米工藝節點的關鍵工具，在尖端晶片的製造成本中佔有極高比重。

近期股價變化

根據2026年5月19日的交易數據，該股開盤價為1449.93美元，盤中最高價達1485.76美元，最低為1441.31美元。終場收盤價落在1459.44美元，單日下跌12.95美元，跌幅0.88%；單日成交量為139萬5420股，較前一個交易日減少16.16%。

總結與展望

整體而言，ASML在先進製程設備領域維持強大的市場地位。投資人後續可持續關注High-NA EUV設備的商用化進程，以及主要晶圓代工廠在AI需求帶動下的資本支出規劃，這將是評估設備供應鏈長期營運表現的關鍵指標。

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